该晶圆创造厂是在西北地方，具体产出8寸大半导体器件晶圆，日访问量废污水排卸量约800吨。基于产出步骤中用大量的盐酸去晶圆蚀刻，导至废污水面氟化物氧浓度高达独角兽200-300mg/L，远超国排卸规格（10mg/L下）。 焦化废水化学成分及来自 废气常见基三部分： 晶圆蚀刻生产工艺 ：含高质量浓度氟化物（HF）、硝酸铵及一些高价属 电学机械性打磨抛光（CMP）污水 ：含納米级硅颗粒剂、有机的络合剂 机械设备清晰生产废水 ：含异丙醇、氟化物等无机物 办理生产技术流程图 按照"生物结晶+混泥土结晶+深层次过滤器"两级治疗系统化： 一个解决 ：污泥脱水氯化钙和氢氧化物钙，建成氟化钙沉淀物中，氟化物我们要除率达85% 两级操作 ：添加图片PAC（缔合氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），清除溶液态危害物 三类补救 ：顺利通过多媒质滤出器和活力性炭物理吸附，水流氟化物酸度安全在8mg/L低于 关键因素机器设备属于：pH半自动改善整体、斜管放置池、板框过滤机（工业废水脱干）。 终于功能 新项目运转十年评估数据信息体现： 氟化物评均浓度值：7.2mg/L（高于国标准化） COD我们要除率：92% 厌氧颗粒污泥含水分率：≤65% 年收回氟化钙副物料约150吨，完成资源的化巧用